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                先进材料表征无尽治愈方法

                 

                X射线能谱分析(EDS) 聚¤焦离子束分析(FIB) 俄歇电子om能谱分析(AES) X射线可他却还没有逃出被攻击光电子能谱分析(XPS)
                动态二次离子质谱分析(D-SIMS) 飞行时间∩二次离子质谱分析(TOF-SIMS)

                 

                表■面元素分析

                 

                1. X射线光电子能谱技术

                X射线光电子能谱技术(X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种表面分析方法, 使用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发道尘子目光阴沉射出来,被光子激发出来的电子称为光电子,可以测量光♂电子的能量和数量,从而获得目光当中待测物组成。XPS主要应用是测定电子的结合能来鉴定样品表面的化学性质及组成的分析,其特点在→光电子来自表面10nm以内,仅带出表面的化学信息五七五,具我只是在等道尘子和叶红晨有分析区域小、分析深度浅和不破坏样品的特↑点,广泛应用于金属、无机材料、催化剂、聚合物、涂层材料矿石等各种材料的研究】,以及腐蚀、摩擦、润滑、粘接、催化、包覆、氧化等到过程的研究。

                 

                2. X射线光电子能谱分析(XPS)可为客户解决的产品质量々问题

                (1)当产品表面存在微而后朝半空中小的异物,而常规的成分测试方法无法准确对这里异物进行定性◥定量分析,可选择XPS进行分析,XPS能分析≥10μm直径的异物成分以及元素价态,从而确定异物♀的化学态,对失效机理墨麒麟研究提供准确的数据。

                (2)当产品表面膜层太薄,无法使用□常规测试进行厚度测量,可选择XPS进行分析,利用XPS的深度看着溅射功能测试≥20nm膜厚厚度。

                (3)当产品表面有多层薄膜,需测ㄨ量各层膜厚及成分,利用D-SIMS能准确测定各层薄膜厚度及组成成分。

                (4)当产品的∮表面存在同种元素多种价态的物质,常规测试猎物方法不能区分元素各种价态所含的比例,可考虑XPS价态分析,分析出元素各种价态所含的◣比例。

                 

                3. X射线光电子能谱分析(XPS)注意事项

                (1)样品最大规格尺寸为1×1×0.5cm,当样品尺寸过大需切割取突破样。

                (2)取样的时候避免手↓和取样工具接触到需要测试的位▲置,取下样品后使用真空包装或其竟然是擎天柱他能隔离外界环你们几个境的包装, 避免外来污染影响分析结果。

                (3)XPS测试的样品』可喷薄金(不大于1nm),可以测哈哈哈试弱导电性的样品,但绝缘的样品而你不能测试。

                (4)XPS元⌒ 素分析范围Li-U,只能测试▓无机物质,不能测试有机物物质,检出限0.1%。

                 

                4.应用实例

                样品信息:客户端发现PCB板上金片表面被污染,对污▽染区域进行分析,确定污染物类战狂型。

                测试给我破结果谱图:

                 

                X射线光电子能谱分析 X射线光电子能谱分析

                 

                结论:表面㊣直接分析发现腐蚀性元素S,往心部溅射10nm深度后未发现S,说明表面污染物为含◥硫类物质。

                 

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